在(zai)高真(zhen)空應用中(zhong)，殘余(yu)(yu)氣體的(de)(de)存在(zai)可(ke)能會(hui)影響(xiang)真(zhen)空系統內部的(de)(de)表面污染，影響(xiang)真(zhen)空工藝的(de)(de)進行。今天(tian)與(yu)大家聊聊殘余(yu)(yu)氣體在(zai)真(zhen)空系統中(zhong)可(ke)能會(hui)產(chan)生的(de)(de)一些反應。

在真空系統(tong)和器件中，有多種因素可能引起(qi)殘(can)余氣體之間發生(sheng)反(fan)應與相(xiang)互(hu)轉化(hua)：

首先，殘余(yu)氣(qi)體(ti)中的某些活性氣(qi)體(ti)分(fen)子在(zai)熱表面上(shang)離(li)解(jie)成原(yuan)子態(tai)。原(yuan)子態(tai)的氣(qi)體(ti)化學活性較高(gao)，它們可(ke)能(neng)與電極材料(liao)及其雜質、污染(ran)物直(zhi)接發生(sheng)反(fan)應，也可(ke)能(neng)由于表面催化作用而(er)與其他氣(qi)體(ti)發生(sheng)反(fan)應。

其次，氣體分子(zi)由于電(dian)(dian)子(zi)碰撞(zhuang)而(er)電(dian)(dian)離形(xing)成離子(zi)態。離子(zi)、電(dian)(dian)子(zi)在電(dian)(dian)場驅使(shi)下(xia)與(yu)各種表(biao)(biao)面(mian)(mian)（電(dian)(dian)極、管殼、器壁、吸(xi)氣劑等）相互作用并可(ke)能產生下(xia)述效應：俄歇電(dian)(dian)子(zi)或二次電(dian)(dian)子(zi)發(fa)(fa)射(she)；氣體分子(zi)以離子(zi)、亞穩態粒子(zi)或中性粒子(zi)形(xing)式從表(biao)(biao)面(mian)(mian)反射(she)；離子(zi)注(zhu)入并不捕(bu)集與(yu)表(biao)(biao)面(mian)(mian)；被捕(bu)集的粒子(zi)自發(fa)(fa)再釋放或受熱再釋放；表(biao)(biao)面(mian)(mian)濺射(she)；電(dian)(dian)子(zi)或離子(zi)誘導脫附甚至(zhi)溶解。

第三是氣體在各種(zhong)材(cai)料表面，尤其是電極表面，吸附并發(fa)生金(jin)屬的(de)表面催化作用。

第四，氣體在(zai)吸(xi)氣劑表面上的吸(xi)附和發生化學(xue)反應。

第五(wu)，真空系統中零部件的(de)熱(re)出氣、冷(leng)吸(xi)氣、熱(re)蒸(zheng)發、熱(re)分解(jie)；光子、電子轟擊使表(biao)面化合物金額沉(chen)積的(de)雜質分解(jie)及吸(xi)附分子離解(jie)等(deng)。

上(shang)面這些反應作(zuo)用都(dou)可以直接或間接的(de)改變殘余氣體成分(fen)，有的(de)造成物質遷移，其結果符合化學平衡的(de)基本規(gui)律。

從(cong)高真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)及超高真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)的(de)角度來看,真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)系(xi)統內的(de)殘余氣體是(shi)-個必須引起注意的(de)問題,殘余氣體往(wang)往(wang)造成真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)系(xi)統內部的(de)表面污(wu)染,從(cong)而達不到真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)工藝所要求的(de)結果。

另(ling)外,對超高真(zhen)(zhen)空(kong)系(xi)(xi)統來(lai)說,殘余氣(qi)(qi)體的(de)(de)成分(fen)對系(xi)(xi)統的(de)(de)極限壓力(li)往(wang)往(wang)產“生重(zhong)要影(ying)(ying)響,如果抽(chou)氣(qi)(qi)系(xi)(xi)統或(huo)抽(chou)氣(qi)(qi)的(de)(de)工(gong)藝文匯選擇不當(dang)，殘余氣(qi)(qi)體是影(ying)(ying)響其工(gong)作(zuo)性能(neng)及(ji)壽命的(de)(de)重(zhong)要因素(su)。在實際工(gong)作(zuo)中,不但(dan)要降低電真(zhen)(zhen)空(kong)器件(jian)中殘余氣(qi)(qi)體的(de)(de)量(真(zhen)(zhen)空(kong)度) ,更要注意控制殘余氣(qi)(qi)體的(de)(de)質(zhi)(氣(qi)(qi)體成分(fen))。

因為電真空(kong)器件(jian)中殘(can)余的02. C02. CO. H20及碳氫化(hua)合物等有害(hai)氣體,會引起電真空(kong)器件(jian)的陰(yin)極“中毒”、高壓放電擊穿等有害(hai)現象。

殘余氣(qi)體Ar可能(neng)會(hui)使電(dian)真(zhen)空(kong)(kong)器件內產“生離(li)子轟(hong)擊(ji)現(xian)象,從而損壞器件的(de)陰極(ji)或其他部件。殘余氣(qi)體的(de)量(liang)多還會(hui)引(yin)起電(dian)子管(guan)的(de)噪聲(sheng)塔高。真(zhen)空(kong)(kong)系(xi)統(tong)中的(de)殘余氣(qi)體成分(fen)是(shi)與真(zhen)空(kong)(kong)系(xi)統(tong)的(de)作業各(ge)類(lei)及工藝(如鍍膜(mo).金屬熔煉等)和所用的(de)抽氣(qi)系(xi)統(tong)的(de)類(lei)型有關,大致可分(fen)為(wei)以下(xia)幾(ji)種情況:

在低真(zhen)空下使用的真(zhen)空裝置(zhi)中，殘余(yu)氣體主要為空氣(O2 N2…）

在只用(yong)油封(feng)機(ji)械(xie)泵連續進(jin)行長時間抽氣的真(zhen)空裝置(zhi)中,當無泄漏時,殘余氣體中有:有機(ji)物及水(shui)蒸氣

在用油擴散泵抽氣(qi)(qi)的(de)高真空裝置中,殘余氣(qi)(qi)體(ti)中主要有:有機物和水蒸(zheng)氣(qi)(qi)。

使用濺射離(li)子(zi)泵抽(chou)氣(qi)系統,但不對真空系統進行特別的烘(hong)烤脫氣(qi)處理時,則(ze)殘余氣(qi)體(ti)中(zhong)水蒸氣(qi)最多(duo),另外還有H2 , CH4 , C0(或N2). C02等(deng)。

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